二次離子質譜儀（SIMS）作為飛行時間質譜儀的重要細分類型，是半導體、生命科學等關鍵領域的核心材料表面分析工具。該類儀器因技術復雜度高、研發周期長、資金投入強度大，長期以來被少數跨國企業壟斷，成為我國高精尖科學儀器領域的 “卡脖子" 產品之一。雪迪龍聚焦這一技術空白，持續推進二次離子質譜儀的自主研發與產業化，此次中標高校項目，正是國產質譜儀打破進口依賴、獲得科研領域認可的直接體現。

飛行時間質譜儀（TOF-MS）是將飛行時間檢測技術與質譜分析技術相結合的gao端分析設備，而二次離子質譜儀則是其在表面分析領域的核心應用形態。雪迪龍研發的飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS），整合了兩者的技術優勢，兼具高分辨率、高靈敏度、精確質量測定等核心特性，憑借質譜分析、二維成像、深度剖析三大核心功能，已廣泛適配醫學、細胞學、地質礦物學、微電子、材料化學、納米科學、生命科學等多個前沿領域的科研與檢測需求。其核心工作原理清晰易懂：離子源發射的離子束作為一次離子源，經一次離子光學系統聚焦與傳輸后，精準轟擊樣品表面；樣品表面受濺射后產生二次離子，系統對二次離子進行提取與聚焦，隨后送入離子飛行系統；在飛行系統中，不同質荷比（m/z）的二次離子因飛行速度差異實現分離，通過對分離后的離子進行檢測，即可完成樣品元素成分、分布特性等相關分析。

相較于能量色散 X 射線光譜（EDX）、俄歇電子能譜（AES）、X 射線光電子能譜（XPS）等傳統技術，飛行時間二次離子質譜儀具備更高的橫向與縱向分辨率，以及更優的質譜靈敏度，可實現元素、同位素、分子等多維度信息的精準分析，能夠提供傳統技術無法覆蓋的專屬元素信息，為前沿科研與工業檢測提供核心技術支撐。